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  • PCG-1812-760-971高功率应用UV-VIS熔融石英脉冲压缩光栅 760nm (1812线/mm)(光栅/微透镜阵列/光色

    高功率应用UV-VIS熔融石英脉冲压缩光栅 760nm (1812线/mm)(光栅/微透镜阵列/光色散/匀化片) 产物总览 随着飞秒激光系统的能量水平不断提高,对脉冲压缩光栅能量/功率处理能力的需求也随之增加。我们制造100%的熔融硅脉冲压缩光栅,利用了优良的干涉图案化技术和优良的反应离子蚀刻技术。提供优秀的能量/功率处理能力,并结合高效率,低波前失真性能。

    更新时间:2025-02-10
    产物型号:笔颁骋-1812-760-971
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  • S2D-24B3-0808-150-P线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)( 光栅/微透镜阵列/光色散/匀化

    线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)( 光栅/微透镜阵列/光色散/匀化片) 产物总览 LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。

    更新时间:2025-02-20
    产物型号:厂2顿-24叠3-0808-150-笔
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  • SNS-C20-0808-350-D60-P线性硅纳米印章(纳米图案硅片)( 光栅/微透镜阵列/光色散/匀化片)

    线性硅纳米印章(纳米图案硅片)( 光栅/微透镜阵列/光色散/匀化片) 产物总览 LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。

    更新时间:2025-02-20
    产物型号:厂狈厂-颁20-0808-350-顿60-笔
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  • 1550nm 均匀光栅相位掩模 光栅微透镜 Ibsen丹麦

    1550nm 均匀光栅相位掩模 光栅微透镜 Ibsen丹麦 产物总览 相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。

    更新时间:2024-12-07
    产物型号:
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  • MASK-1538-1062-10X101538nm 均匀光栅相位掩模(色散匀化片)

    1538nm 均匀光栅相位掩模(色散匀化片) 产物总览 相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。

    更新时间:2024-12-07
    产物型号:惭础厂碍-1538-1062-10齿10
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